40 CFR Part 98, Table I-4
Verified against eCFR.gov as of June 20, 2026View official text on eCFR.gov ↗
| Process type/sub-type | Process gas i |
|---|---|
| CF4 | C2 F6 | CHF3 | CH2 F2 | CH3 F | C3 F8 | C4 F8 | NF3 | SF6 | C4 F6 | C5 F8 | C4 F8 O |
Etching/Wafer Cleaning
| 1-Ui | 0.65 | 0.8 | 0.37 | 0.2 | 0.3 | 0.3 | 0.18 | 0.16 | 0.3 | 0.15 | 0.1 | NA |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| BCF4 | NA | 0.21 | 0.076 | 0.06 | 0.0291 | 0.21 | 0.045 | 0.044 | 0.033 | 0.059 | 0.11 | NA |
| BC2 F6 | 0.058 | NA | 0.058 | 0.043 | 0.009 | 0.018 | 0.027 | 0.045 | 0.041 | 0.062 | 0.083 | NA |
| BC4 F8 | 0.0046 | NA | 0.0027 | 0.054 | 0.007 | NA | NA | NA | NA | 0.0051 | NA | NA |
| BC3 F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.00012 | NA |
| BCHF3 | 0.012 | NA | NA | 0.057 | 0.016 | 0.012 | 0.028 | 0.023 | 0.0039 | 0.017 | 0.0069 | NA |
| BCH2 F2 | 0.005 | NA | 0.0024 | NA | 0.0033 | NA | 0.0021 | 0.00074 | 0.00002 | 0.00003 | NA | NA |
| BCH3 F | 0.0061 | NA | 0.027 | 0.0036 | NA | 0.00073 | 0.0063 | 0.008 | 0.0082 | 0.00065 | NA | NA |
Chamber Cleaning
In situ plasma cleaning
| 1-Ui | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.2 | NA | NA | NA | NA |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| BCF4 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.037 | NA | NA | NA | NA |
| BC2 F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC3 F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
Remote plasma cleaning
| 1-Ui | NA | NA | NA | NA | NA | 0.063 | NA | 0.018 | NA | NA | NA | NA |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| BCF4 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.037 | NA | NA | NA | NA |
| BC2 F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC3 F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BCHF3 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.000059 | NA | NA | NA | NA |
| BCH2 F2 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.00088 | NA | NA | NA | NA |
| BCH3 F | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.0028 | NA | NA | NA | NA |
| BF2 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.5 | NA | NA | NA | NA |
In situ thermal cleaning
| 1-Ui | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.28 | NA | NA | NA | NA |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| BCF4 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | 0.01 | NA | NA | NA | NA |
| BC2 F6 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
| BC3 F8 | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA | NA |
Notes: NA = Not applicable; i.e., there are no applicable default emission factor measurements for this gas. This does not necessarily imply that a particular gas is not used in or emitted from a particular process sub-type or process type.
[89 FR 31921, Apr. 25, 2024]